1. Chất liệu tinh khiết – Cấu trúc tinh thể hoàn hảo
Chủ yếu được làm từ silicon đơn tinh thể (monocrystalline Si) với độ tinh khiết lên tới 99.9999%.
Kết cấu tinh thể hoàn chỉnh giúp đảm bảo tính dẫn điện, cách điện và đặc tính điện tử ổn định trong quy trình chế tạo vi mạch.
2. Bề mặt siêu phẳng – Chuẩn để in vi mẫu nano
Được mài và đánh bóng ở cấp độ nano, giúp các lớp màng mỏng và cấu trúc vi mô được in lên chính xác tuyệt đối.
Độ phẳng đồng đều toàn bề mặt giúp giảm sai lệch trong quá trình quang khắc, cấy ion, và khắc plasma.
3. Đa dạng kích thước và chuẩn công nghiệp
Đường kính phổ biến: 100mm (4"), 150mm (6"), 200mm (8") và 300mm (12").
Độ dày, loại mặt (polished/single/double), và cấp chất lượng (Prime/Monitor/Test) tùy theo mục đích sử dụng.
4. Ứng dụng rộng rãi trong ngành công nghệ cao
Dùng trong:
Chế tạo vi xử lý, chip nhớ, cảm biến hình ảnh (CMOS), bộ điều khiển nhúng.
Sản xuất MEMS, LED, thiết bị RF, linh kiện công nghệ nano.
Nghiên cứu và phát triển trong các viện công nghệ, trường đại học và trung tâm nghiên cứu bán dẫn.
5. Quy trình sản xuất nghiêm ngặt – Tiêu chuẩn sạch phòng
Được sản xuất trong môi trường phòng sạch cấp độ cao (Class 10 – Class 100).
Bao bọc kỹ lưỡng bằng khay nhựa hoặc cassette đặc dụng để bảo vệ trong quá trình vận chuyển.
